設備一覧LIST
一般品 製造設備
GMP対応の医薬品原薬・中間体の製造プロセスに
広範囲に対応できる設備です。
反応釜のサイズは、少量から大量まで対応でき、
特殊反応釜（一圧反応、低温反応、耐酸性反応など）も取り揃え、
反応後の後処理に必要な付帯設備も充実しています。
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金楽工場・第１工場
- 反応釜
- 65L～500L(GL/SUS、計5基)
500L~3000L(GL、計8基)
3000L～5000L(GL、計7基)
6000L(SUS、1基) - ろ過機
- 遠心分離機 計2基
- 乾燥機
- 棚式真空乾燥機 計4基
- 粉砕機
- ピンミル 1基
- 特殊設備
- 低温反応釜(-80℃) 500L、1500L、3000L(SUS、計3基)
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金楽工場・第２工場 開発品製造エリア（パイロット設備）
- 反応釜
- 200L、500L、1500Ｌ、(GL、計3基)
2000L、3000L(GL、計2基)
500L(HAS、一圧容器、1基) - ろ過機
- 遠心分離機 計2基
単板式加圧ろ過機 1基 - 乾燥機
- 棚式真空乾燥機 1基
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金楽工場・第２工場 Sエリア
- 反応釜
- 1000L、2000L(SUS、計2基)
4000L(GL、1基)
6000L(GL、1基) - ろ過機
- 遠心分離機 計2基
- 乾燥機
- 棚式真空乾燥機 1基
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泉北工場・第１工場
- 反応釜
- 300L、500L(GL、計2基)
1500L~3000L(GL、計6基)
5000L(GL、計4基)
2800L、5000L(SUS、計2基) - ろ過機
- 遠心分離機 計4基
単板式加圧ろ過機 1基 - 乾燥機
- 棚式真空乾燥機 1基
コニカル乾燥機 1基 - 特殊設備
- 高温反応釜(～200℃) SUS、1基
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泉北工場・第２工場
- 反応釜
- 1500L~3000L(GL、計7基)
5000L(GL、計3基)
6000L、8000L(GL、計2基)
5000L(HAS、一圧容器、1基) - ろ過機
- 遠心分離機 計4基
- 乾燥機
- 振動流動乾燥機 計3基
- 粉砕機
- ジェットミル 1基、パワーミル 1基、パルペライザー 1基
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泉北工場・第３工場
- 反応釜
- 4000L~5000L(GL、計5基)
6000L(GL、1基)
8000L~10000L(GL、計4基)
3000L(SUS、1基)
5000L(HAS、一圧容器、1基) - ろ過機
- 遠心分離機 計3基
- 乾燥機
- コニカル乾燥機 計2基
高薬理活性物質製造施設
高薬理活性物質とは、抗がん剤のように強い薬理作用を示す反面、
人体に有害な影響をおよぼす物質でもあり、
これらの取り扱いは設備内で封じ込める必要があります。
当社では、高いレベルで封じ込めが可能な設備・施設を
保有しています（カテゴリー４対応）。
また、一般品製造設備と同様に、多様な反応、単位操作に対応します。
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金楽工場・第２工場 高薬理活性物質製造エリア（パイロット設備）
- 反応釜
- 65L、200L、500L(GL、計3基)
500L(SUS、1個) - ろ過機
- 遠心分離機 1基
- 乾燥機
- ろ過乾燥機 1基
- 粉砕機
- ジェットミル 1基、ピンミル 計2基
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泉北工場・第３工場 高薬理活性物質製造エリア
- 反応釜
- 1500L(GL、計2基)
3000L、5000L(GL、計2基) - ろ過機
- 遠心分離機 1基
- 乾燥機
- ジェットミル 1基、ピンミル1基
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泉北工場・第４工場 高薬理活性物質製造エリア
- 反応釜
- 1500L、3000L(GL、計3基)、3000L(SUS、1基)
5000L(GL、計2基)、8000L(GL、計4基)
10000L(GL、計5基) - ろ過機
- 遠心分離機 2基
- 乾燥機
- ろ過乾燥機 1基
コニカル乾燥機 2基 - 粉砕機
- ジェットミル 1基
GL：グラスライニング、SUS：ステンレス
高薬理活性物質製造施設について
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